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  • 千亿国际镀膜水平式建筑镀膜线,采用磁控溅射沉积技术,在玻璃表面沉积一系列介质和金属薄膜,主要用于加工各种low-E玻璃、AR膜,以及阳光控制玻璃等。




    设备特点:

    1.   溅射室由一系列结构相同的795mm井位单元构成

    2.   泵井位采用独特的气体隔离装置

    3.   应用新一代以铝型材为支撑结构的可调式磁棒

    4.   设计5-9段辅助工艺气体分配系统,每一段可以选择不同类型的气体

    5.   采用伺服电机控制,实现传输的高精度控制。

    6.   不断缩小进/出口室腔体体积,提高节拍,降低成本

    7.   工艺气体分配系统集成在阴极盖板上

    8.   每一个阴极单元都配有独立的控制系统

    9.   前后室采用整体式盖板设计,可实现机械提升和液压提升

    10. 镀膜区采用磁悬浮分子泵和干泵



    技术参数:



    SE2540H系列

    SE3300H系列

    基片

    浮法玻璃,钢化玻璃,夹胶玻璃等

    基片尺寸

    Max. 2540×3660mm(可定制)

    Max. 3300×6000mm(可定制)

    基片厚度

    3-19mm(可定制)

    机械节拍

    > 20s

    >30s

    极限真空

    < 2E-6mbar

    有效运行时间

    >95%

    膜层均匀性

    ≤±1.0%














  • 技术参数



    SE2540H系列

    SE3300H系列

    基片

    浮法玻璃,钢化玻璃,夹胶玻璃等

    基片尺寸

    Max. 2540×3660mm(可定制)

    Max. 3300×6000mm(可定制)

    基片厚度

    3-19mm(可定制)

    机械节拍

    > 20s

    >30s

    极限真空

    < 2E-6mbar

    有效运行时间

    >95%

    膜层均匀性

    ≤±1.0%